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电子测量中的应用材料公司推出全新SEMVision G4缺陷再检测系统
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上传时间: 2020-11-26
详细说明：应用材料公司推出最先进的缺陷再检测SEM(扫描电子显微镜)SEMVision:trade_mark: G4系统，它将应用材料公司非常成功的SEMVision系统的技术和生产能力提升到45纳米及更小的技术节点。SEMVision G4系统的关键在于全新的SEM聚焦离子枪技术和增强的多视角SEM成像系统(MPSI)，他们具有卓越的2纳米物理精度，能提供无与伦比的成像质量，其每秒一个缺陷的检测速度也设定了新的基准。
应用材料公司工艺诊断和控制事业部SEM部门总经理Ronen Benzion表示：“45纳米存储器和逻辑芯片具有深高宽比和高密集度，因此高可靠性和高生产力的缺陷再检测及分类对SEM的表现提出了前所未有的
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