文件名称:
元器件应用中的高精度电阻、电容形成技术
开发工具:
文件大小: 117kb
下载次数: 0
上传时间: 2020-12-10
详细说明：吴晓鸫 徐 政 何 磊(中国电子科技集团公司第58研究所，江苏 无锡 214035)摘 要：本文介绍了几种集成电路物工艺中高精度电阻和电容的制作方法。关键词：掺杂；扩散；注入；溅射中图分类号：TN305．2 文献标识码：A1 前言在集成电路的工艺中，为了提高器件性能，提高集成度，电阻和电容也集成在器件之中。随着线宽不断缩小，对电阻和电容的精度要求也越来越高。本篇介绍了几种制作高精度电阻和电容的制作工艺。2 高精度电阻的制作2．1 掺杂法集成电路中用掺杂法制作电阻,一般采用扩散电阻法和离子注入法。2．1．1 扩散电阻法扩散电阻法工艺简单，但精度较低，寄生效应大，面积较大。扩散电阻法常用于双极电路
(系统自动生成,下载前可以参看下载内容)
下载文件列表
相关说明
- 本站资源为会员上传分享交流与学习,如有侵犯您的权益,请联系我们删除.
- 本站是交换下载平台，提供交流渠道，下载内容来自于网络，除下载问题外，其它问题请自行百度。
- 本站已设置防盗链，请勿用迅雷、QQ旋风等多线程下载软件下载资源，下载后用WinRAR最新版进行解压.
- 如果您发现内容无法下载，请稍后再次尝试；或者到消费记录里找到下载记录反馈给我们.
- 下载后发现下载的内容跟说明不相乎，请到消费记录里找到下载记录反馈给我们，经确认后退回积分.
- 如下载前有疑问，可以通过点击"提供者"的名字，查看对方的联系方式，联系对方咨询.
