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上传时间: 2020-12-09
详细说明：摘要： 就象上一代248nm光刻技术一样，193nm光刻可能会继续拓展和延伸，其使用极限将远远超出人们的预计。随着强烈相位移和浸入式光刻以及其它一些技术的应用，193nm光刻至少可以维持到45nm工艺时代，甚至更远。 尽管以前没有考虑过次波长光刻，但是现在人们逐渐接受了这样一个事实：采用任何波长的光源都可以得到分辨率为三分之一波长的特征图形。因此，将193nm光刻设备用于65nm工艺时代必定是可行的（图1）。 图1 为130nm工艺制作的193nm扫描光刻机二进制掩模版。相位移和其它提高分辨率的技术至少可以将193nm光刻带入65nm工艺时代。 尽管半导体业界已经
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