文件名称:
EDA/PLD中的IC设计中先进库格式语言与EDA工具的结合
开发工具:
文件大小: 107kb
下载次数: 0
上传时间: 2020-12-09
详细说明:先进库格式(ALF)是一种提供了库元件、技术规则和互连模型的建模语言,不同抽象等级的ALF模型能被EDA同时用于IC规划、原型制作、实现、分析、优化和验证等应用中。本文在介绍ALF概念的基础上,详细讨论了使用ALF时库元件与IC的设计流程,同时还介绍了IC分层实现与原型制作的方法。 在IC设计中,常常会发现半导体性能与得到的设计结果之间存在差距,这些差距最终要靠新一代EDA工具来弥合。一般说来,要想消除差距就必须将以前孤立的设计任务集成到一起,或者将以前零散的设计方案进行统一。500)this.style.width=500;" align=right vspace=12>
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