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上传时间: 2020-12-09
详细说明：（1） 简单模型验证 把中间的二氧化硅换成硅，就得到图3.8的简化模型。杂质的扩散系数为D，可以得出[13]： 取D1=D2=D3=D，m=1，对方程（3.47）、（3.4）、（3.57）进行化简，在三个区域中得到一个统一的方程式： 图3.8 简化模型 （2） 杂质流密度和总量验证 界面处进入硅中的流密度为： 与方程（3.50）比较，二者相等，所以流过界面的流密度相等。 通过Si/SiO2界面进入SiO2和Si中的杂质总量为 其中： 把方程（3.62）代入方程（3.6
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