文件名称:
ASML lithography: 目前世界上最先进的光刻机
开发工具:
文件大小: 19kb
下载次数: 0
上传时间: 2020-12-09
详细说明：TWINSCAN:trade_mark: XT:1700iThe XT:1700i with HydroLith immersion technology delivers the world’s first 1.2 hyper NA for high-volume manufacturing at the 45-nm node. This innovative lithography system leverages TWINSCAN dual stages and an advanced, in-line catadioptric lens to deliver unrivalled resolution, d
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