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上传时间: 2021-03-19
详细说明：NF3在低厚度电路蚀刻中有优异的刻蚀效率和选择性。NF3是在微电子制造中的一种优良的等 离子蚀刻气体和CVD清洗气体。在厚度小于1.5um的集成电路材料的蚀刻中，三氟化氮具有 非常优异的蚀刻速率和选择性，在被蚀刻物表面不留任何残留物，同时也是非常良好的清洗 剂。 三氟化氮(NF3)是市场容量最大的电子特种气体产品。据华经产业研究院的数据，2018年NF3 全球总需求约2.83万吨，市场规模约50亿元人民币，预计2021年全球需求4万吨左右，为市场 容量最大的电子特种气体产品。2018年中国大陆三氟化氮市场用量为7405吨，随着半导体、 显示面板行业生产及消费重心逐渐向中国大陆转移，加上主要原料
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