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文件名称: 不同电场方向下的激光诱导类金刚石碳膜
  所属分类: 其它
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  文件大小: 769kb
  下载次数: 0
  上传时间: 2021-03-19
  提 供 者: weixin_********
 详细说明:Ti电极直接沉积在类金刚石碳(DLC)膜上的不同位置,以在其表面上形成水平和纵向电场。当DLC膜被激光辐照并且电场强度为0 V / cm时,ID / IG比随膜中sp3含量的增加而增加。偏置电场强度从0增加到1000 V / cm,相应的激光诱导损伤阈值(LIDT)增加。当电场强度为220 V / cm时,观察到具有两种不同电极结构的DLC膜的三维损伤形态。在电场强度为110 V / cm,激光能量密度为0和1.56 J / cm2的拉曼光谱中观察到两种类型的电极结构。结果表明,水平偏置场对纵向电场的影响比纵向电场对sp3–sp2杂交减少的影响更明显,阻止了sp2簇的形成,从而减缓了DLC的石墨化过程。向DLC膜施加偏压场可以减慢DLC膜的石墨化过程,并改善DLC膜的LIDT。
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