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文件名称: 氦掺杂硅的远红外特性
  所属分类: 其它
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  文件大小: 1mb
  下载次数: 0
  上传时间: 2021-03-18
  提 供 者: weixin_********
 详细说明:单晶硅是用于半导体器件的重要材料,也是器件研究中的潜在材料。研究了通量为5.0 x 10(16),1.0 x 10(17),2.0 x 10(17)和4.0 x 10(17)cm(-2)的氦离子注入样品的远红外光学性能。在4到85 cm(-1)的波数范围和145到520 K的温度范围内测量了不同氦浓度的硅的吸收系数和折射率。结果表明,吸收系数随着氦通量的增加而增加。离子,但折射率降低。所有样品的吸收系数,折射率和温度之间的相关性相似。在整个测量温度范围内,折射率随温度的升高而增加,但在不同的波段,吸收系数具有不同的趋势。在12 cm(-1)以下的区域,吸收系数随温度的升高而降低;但是,当波数大于30 cm(-1)时,吸收系数会增加。 Drude模型很好地拟合了不同波段的吸收系数曲线。通过透射电子显微镜(TEM)在植入区域中观察到大量的氦气泡和缺陷,例如空隙和位错,这有助于增加光吸收。
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