文件名称:
基于全湿法蚀刻技术的基于SU-8的光电开关的制造
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文件大小: 409kb
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上传时间: 2021-03-18
详细说明：采用全湿法刻蚀Craft.io设计并制造了具有倒肋式波导结构的高分子分散红1（DR1）/ SU-8电光（EO）开关。客体-EO EO材料DR1 / SU-8已成功合成，并详细表征了其光学性能。 DR1 / SU-8材料具有较低的加工成本，出色的光稳定性和15.4 pm / V的大EO系数。仔细设计和模拟了倒肋波导和共面波导电极的特征参数。通过全湿蚀刻Craft.io，成功制造出了优化的Mach-Zehnder干涉仪开关，其光纤间的插入损耗更低，为9.6 dB。开关上升时间和下降时间分别为322 ns和294 ns。
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