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上传时间: 2021-03-17
详细说明：在本文中，我们提出了超疏水的微/纳米双重结构（MNDS）。 通过对硅进行KOH蚀刻，首先设计出具有特定几何尺寸的设计精良的微结构，包括倒金字塔和V形凹槽。 然后通过改进的可控的深React离子刻蚀（DRIE）Craft.io在没有掩膜的情况下，在微结构顶上形成由高致密的高纵横比纳米柱制成的纳米结构，从而形成MNDS。 由于最小化的液体固体接触面积和DRIE过程中沉积的顶部碳氟化合物层的结果，MNDS显示出可靠的超疏水性。 接触角和接触角磁滞分别类似于165和小于1度。 根据挤压和跌落测试，MNDS的这种超疏水性非常稳定，即使在电润湿阈值电压接近300 V的高压条件下也是如此。因此，这种微米/纳米双尺度结构在自清洁表面上具有强大的潜在应用价值和超疏水微/纳米流体技术。
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