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  1. 光机系统设计part1

  2. 在对一个快速发展的领域进行了充分研究后，《光机系统设计(原书第3版)》的改进要点如下： 对光机领域内的最新发展和技术进行了详细的回顾： 采用统计学的方法评估光学件(系统)的寿命及使光学件的断裂应力达到最大化的方法： 提出了新的理论来阐述温度变化对安装应力和压力的影响； 对空间环境的特性，对环境敏感的设备所需要的振动标准及激光对光学件的损伤重新进行了讨论； 给出了新材料机械性能的最新列表。 无论读者是在设计一台高分辨率的投影仪或者是最敏感的空间望远镜，都可以在《光机系统设计》(原书第3版)中找到

  3. 所属分类：专业指导

    • 发布日期：2013-03-12
    • 文件大小：28311552
    • 提供者：lufan2008

  1. 光机系统设计part2

  2. 在对一个快速发展的领域进行了充分研究后，《光机系统设计(原书第3版)》的改进要点如下： 对光机领域内的最新发展和技术进行了详细的回顾： 采用统计学的方法评估光学件(系统)的寿命及使光学件的断裂应力达到最大化的方法： 提出了新的理论来阐述温度变化对安装应力和压力的影响； 对空间环境的特性，对环境敏感的设备所需要的振动标准及激光对光学件的损伤重新进行了讨论； 给出了新材料机械性能的最新列表。 无论读者是在设计一台高分辨率的投影仪或者是最敏感的空间望远镜，都可以在《光机系统设计》(原书第3版)中找到

  3. 所属分类：专业指导

    • 发布日期：2013-03-12
    • 文件大小：24117248
    • 提供者：lufan2008

  1. 专业低温等离子体与稀薄气体仿真

  2. PEGASUS专注于稀薄气体的直接蒙特卡洛模拟和低气压放电等离子体模拟，是真空技术、等离子体技术、薄膜技术、微电子技术、微细加工技术的专业数值模拟软件，能广泛应用于微电子中刻蚀、沉积和溅射设备，真空泵的优化设计，MEMS的工艺过程设计，再入飞行器等领域的研究，应用行业涵盖电子/半导体、新材料(纳米管、光纤)、新能源(燃料电池、太阳能光伏)、MEMS、光学、陶瓷、食品/饮料、汽车、航天、金属加工等领域。

  3. 所属分类：电信

    • 发布日期：2013-08-28
    • 文件大小：5242880
    • 提供者：jhxfuture

  1. 光学薄膜研究与设计

  2. 第一部分简单的介绍了光学薄膜的研究历史，光学薄膜的应用及其现状和前景； 第二部分叙述了光学薄膜的理论； 第三部分介绍了模拟退火优化算法理论； 第四部分阐述了光学薄膜的设计； 最后第五部分是对本文的总结。

  3. 所属分类：专业指导

    • 发布日期：2012-11-23
    • 文件大小：4194304
    • 提供者：mmmggg2008

  1. 图案化BaTiO3 / La0.67Sr0.33MnO3异质结构中与方向有关的光磁电效应

  2. 光学磁电效应已被广泛研究，但是在室温下获得大且可调的光学磁电效应仍然是一个巨大的挑战。 我们在这里设计具有不同方向的铁电/铁磁异质结构，它们由钛酸钡BaTiO3和氧化锰La0.67Sr0.33MnO3组成。 这种人工双层结构具有室温铁电和铁磁特性。 在双层薄膜上对4μm光栅结构进行构图后，通过布拉格衍射法系统地研究了近红外光的光磁电效应。 对于（100）-和（111），n阶1的衍射光强度的相对变化与薄膜的磁化和极化有很大关系，无论超晶格是在反射还是透射几何中照射的。取向的样品均显示出室温的光磁电

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-13
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：weixin_38700240

  1. 高亮度半导体激光器腔面膜的研究

  2. 要降低半导体激光器阈值电流密度和提高外微分量子效率,其中采取的主要方法之一是在发光芯片的两个端面选取适当的能量反射比。根据光学薄膜的设计理论,优化膜系结构,并采用电子束离子辅助蒸发技术,选取合适的薄膜材料,在条宽100 μm,腔长1 mm的850 nm半导体激光器发光芯片的两个端面沉积光学介质膜。其作用不仅获得一定的光谱特性,而且可以使发光腔面钝化。经过反复实验优化薄膜沉积的工艺参量,可以减少膜层材料的吸收,提高膜层的激光损伤阈值。经测试采用此方法制作出的高亮度半导体激光器使用寿命明显提高,发光

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-26
    • 文件大小：790528
    • 提供者：weixin_38704870

  1. 激光薄膜的设计与制备

  2. 目的研究激光薄膜的膜系结构及提高激光损伤阈值的制备工艺。方法基于场强优化分布,设计Si基底上3~5μm增透、1064 nm截止的激光薄膜,对镀后的薄膜进行激光辐照处理和真空退火处理,分析薄膜的相关性能。结果薄膜内部不同的场强分布会对其激光损伤特性产生不同的影响。在满足光学性能的情况下,采用适当的膜系结构,使膜层/膜层界面处的电场强度降低,或者使最大电场强度存在于激光损伤阈值较高的材料中,可有效提高整个膜系的激光损伤阈值。采用激光辐照处理和真空退火处理,也可以提高薄膜的激光损伤阈值。结论经过优化设

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-25
    • 文件大小：537600
    • 提供者：weixin_38737283

  1. 用于飞秒激光啁啾脉冲放大系统的光谱滤波器的设计研究

  2. 根据薄膜光学的设计原理,针对飞秒激光脉冲放大过程中的增益特性以及对输出光谱形状的特殊要求,通过膜系的优化计算,设计研制了适用于飞秒激光的光谱滤波器件,实现对飞秒光脉冲的频谱强度与频谱分布的特殊控制,以获得所需的具有特殊要求的飞秒激光光谱。实验结果表明,通过这种滤波器件,适用于飞秒激光啁啾脉冲放大系统。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-25
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38513665

  1. 实现光学薄膜吸收损耗绝对测量的新方法

  2. 光学薄膜吸收损耗的绝对测量对光学薄膜的优化设计与应用至关重要,以光热失调技术实现光学薄膜吸收损耗的绝对测量为研究目的,采取连续激光加热的方式,理论与实验相结合,提出了一种利用反射率或透射率、温度变化和加热光功率之间的3个线性关系,实现吸收损耗绝对测量的方法。针对设计的高反射光学薄膜实验样品,获得样品对加热光功率的吸收率绝对值为1.64伊10-2,并分析了影响测量精度的主要因素。研究表明,提出的方法可以实现光学薄膜吸收损耗的绝对测量,特别适合于具有较大反射率或透射率温度系数的样品,测量准确性依赖于

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-20
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38654380

  1. 基于光学薄膜的LED光谱调制技术

  2. 针对白光LED光谱与自然光谱的不同,讨论了采用光学薄膜改善白光LED光谱的可行性,同时提出了一种利用光学薄膜消除白光LED发光光谱中蓝光成份的方法,设计了光学薄膜的透过率曲线,并分析了其可行性.针对单色LED光谱随温度不同发生变化的特点,根据分析样品在4.9°、24°和49°三种环境温度下的光谱分布,设计了一种光学薄膜的透过率曲线,分析利用该设计薄膜改善单色LED光谱温度稳定性的可行性及结果.研究结果表明,在保证白光LED出光效率的前提下,仅靠在发光芯片上镀制光学薄膜的方

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-20
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38603936

  1. 聚合物复合薄膜DR13/PMMA的制备及其光学特性

  2. 薄膜的厚度、折射率和传输损耗等参数在电光系数的确定和光波导器件的设计和制作过程中都是重要的参考数据。采用旋涂法制备了三种不同质量比的偶氮化合物染料分散红13(DR13)与聚合物聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)复合薄膜; 利用分光光度计测量样品的吸收光谱; 利用棱镜耦合仪测量了薄膜的厚度和折射率,并对不同波长下的折射率进行拟合得到折射率色散曲线; 采用视频摄像技术研究样品的光传输特性,利用自己编写的计算机程序来处理其实验结果。DR13/PMMA复合薄膜在300 nm和500 nm处有两个大的吸收峰,而

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-12
    • 文件大小：867328
    • 提供者：weixin_38613681

  1. 大尺寸宽带偏振薄膜的制备与测试

  2. 用计算机辅助设计,依靠膜系自身匹配原则,压缩通带波纹,以此提高偏振膜的带宽和稳定性；同时对偏振膜的材料选择、膜系设计以及实际测量进行了研究,并在此基础上设计并制备出以HfO2/SiO2为镀膜材料,使用角度为60°,工作波长为1053 nm的多层薄膜偏振片,该偏振片具有良好的光学性能和比较高的抗激光损伤阈值。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-11
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38545463

  1. 亚波长矩形金属偏振分束光栅的分析与设计

  2. 将有效介质理论(EMT)和薄膜光学的抗反射设计方法相结合,从理论上分析并设计了650 nm工作波长的亚波长矩形金属偏振分束光栅,给出了分束光栅的最佳设计参数,采用严格耦合波理论(RCWA)模拟计算了光栅的偏振分束特性。研究结果表明,亚波长矩形金属光栅具有形式双折射效应,通过调整占空比,可使光栅层获得介于光栅脊和光栅槽之间的任何大小的有效折射率,克服了光学介质薄膜设计时受膜层材料折射率限制的缺陷;光栅对TE偏振表现为金属膜特性,具有高反射,对TM偏振表现为介质膜特性,具有高透射,在-30°

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-10
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38731553

  1. 193 nm氟化物高反膜研究

  2. 为了研制低损耗、高性能的193 nm氟化物高反膜,对193 nm氟化物高反膜的设计、制备与性能分析进行了深入探讨。用挡板法和预镀层技术相结合,实现了在现有镀膜机上对193 nm薄膜的膜厚控制。在熔石英基底(JGS1)上,用热舟蒸发制备了不同氟化物材料组合高反膜,对不同氟化物材料组合高反膜的反射率、透射率和光学损耗等光学特性,横截面形貌和表面粗糙度等微结构以及应力等特性进行了讨论和比较。在对不同材料组合高反膜性能分析比较的基础上,对应用于高反膜膜材料组合进行了优化选择,以NdF3/AlF3为材料对

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-09
    • 文件大小：3145728
    • 提供者：weixin_38551938

  1. 反射光谱拟合法确定聚合物半导体薄膜光学常数和厚度

  2. 光学常数(折射率和消光系数)是聚合物半导体薄膜器件结构设计和性能优化的重要参数。借助于Forouhi-Bloomer (F-B)色散模型，通过拟合P3HT(聚3-己基噻吩):PCBM([6,6]-苯基-C61-丁酸甲酯)和MEH-PPV(聚[2-甲氧基-5-(2-乙基己氧基)-1,4-对苯乙炔]):PCBM 体异质结薄膜以及聚合物导电薄膜PEDOT(聚3,4-乙烯二氧噻吩):PSS(聚苯乙烯磺酸)的反射率，计算得到其光学常数和厚度，拟合得到的反射率曲线和实验曲线符合良好。厚度拟合结果与表面轮廓仪

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-07
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38719564

  1. 微粗糙光学表面与掩埋多体粒子复合光散射特性

  2. 基于时域有限差分法/时域多分辨（FDTD/MRTD）混合方法研究了微粗糙光学表面与多体缺陷粒子的复合光散射问题。建立微粗糙光学表面与掩埋多体粒子复合散射模型，利用DB2小波尺度函数的移位内插原理，将计算区域分别划分为MRTD和FDTD方法区域，推导出复合散射场，计算微粗糙光学表面中掩埋多体粒子的复合散射截面，并与矩量法的结果比较以验证该方法的有效性。分析入射角、气泡粒子的个数、相对位置及深度等物性特征对微粗糙光学表面与掩埋多体粒子复合双站散射截面的影响。上述结果为光学无损检测、光学薄膜、微纳米结

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-07
    • 文件大小：10485760
    • 提供者：weixin_38744694

  1. 甲烷气体探测与识别系统窄带滤光膜的研制

  2. 依据光学薄膜理论及光学材料的特性，结合膜系设计软件，采用拆分技术原理，实现了双面膜系的设计，解决了单面膜层过厚、应力过大的问题。利用逆向分析法对实验测试结果进行反演，通过对膜层敏感度分布的研究，分析了产生误差的原因。采用不同的监控方式，使膜系的敏感层厚度得以精准控制。最终研制的滤光膜光谱测试结果表明，3.31 μm单点透射率为93.7%，通带半峰全宽为49 nm，1~3.2 μm和3.4~5 μm波段平均透射率为0.17%，满足系统使用要求。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-07
    • 文件大小：8388608
    • 提供者：weixin_38726407

  1. 沉积速率对直流脉冲溅射钼薄膜微结构与光学性能的影响

  2. 用脉冲直流磁控溅射方法在硅片衬底上制备了厚度相同的单层钼薄膜，结合台阶仪、X射线衍射仪、场发射扫描电镜、原子力学显微镜和紫外-可见分光光度计分别研究了不同沉积速率对钼薄膜微结构、表面形貌和光学性能的影响。掠入射X射线反射谱拟合的钼薄膜厚度与设计厚度一致，说明当前钼薄膜制备工艺成熟稳定。沉积速率通过改变薄膜生长模式与薄膜形核率影响钼薄膜表面形貌演化。随着沉积速率的增大，薄膜越来越致密，钼(110)面的衍射峰强度逐渐增大，平均晶粒尺寸增大, 表面粗糙度先降低后增加。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-06
    • 文件大小：6291456
    • 提供者：weixin_38617615

  1. 不同沉积温度下非晶硅光学薄膜的光学特性研究

  2. 光学薄膜的光学特性是薄膜设计与制备的基础。硅材料是红外光学薄膜中一种重要的高折射率材料。研究了在不同沉积温度下非晶硅光学薄膜的折射率和消光系数的变化。结果表明，在200 ℃时，硅薄膜折射率最大，消光系数随温度升高而减小。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-05
    • 文件大小：1043456
    • 提供者：weixin_38582716

  1. 太阳光谱金属-介质干涉型强吸收膜的研究

  2. 随着军事隐形、太阳能转换以及激光热处理等技术研究的日益深入, 对表面吸收膜的技术要求不断提高。为满足太阳光谱吸收的要求, 研制了一种在400~2500 nm波段具有强吸收作用、适应多种基底的光学薄膜。通过分析吸收理论, 建立吸收结构模型, 并结合材料的特性研究, 实现了吸收膜的设计。采用真空离子辅助沉积技术, 根据逆向反演法, 对“分步沉积”工艺二次优化, 制备了太阳光谱强吸收膜。测试结果表明, 研制的吸收膜在400~2500 nm波段的平均吸收率为98.15%。制备的吸收膜通过了机械牢固度测试

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-04
    • 文件大小：6291456
    • 提供者：weixin_38506182
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