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  1. 光波导技术

  2. 19世纪60年代,Maxwell在前人工作的基础上,提出完整描述客观电磁场的一套基本方程,称为Maxwell方程。根据这组基本方程,预言了电磁波的存在,并确认光波的电磁本质。迄今为止,Maxwell的经典电磁理论仍然是分析光的传输问题的理论基础。
  3. 所属分类:专业指导

    • 发布日期:2014-03-21
    • 文件大小:2097152
    • 提供者:u014256367
  1. 光波导技术

  2. 光波导技术
  3. 所属分类:讲义

    • 发布日期:2017-04-30
    • 文件大小:2097152
    • 提供者:qq_38594929
  1. 光波导的制备技术.pptx

  2. 本人课程做的一个PPT,如有需要,自行 下载。 主要内容: 光波导的制备通常需要两个过程: ①光波导薄膜:制作技术主要包括原子掺杂技术,淀积技术,外延生长技术和电光技术。 ②光路几何图形的微细加工:技术主要包括化学腐蚀法刻蚀和离子束刻蚀。进行刻蚀的目的:一是规定光的传输方向,让光在通道上有效通过,二是在规定的通道上加工制作不同光波导器件以便对光信号进行调制、分束、开关和探测。
  3. 所属分类:讲义

    • 发布日期:2020-04-07
    • 文件大小:447488
    • 提供者:weixin_44496967
  1. 基于氟化镁-氧化铝的紫外光波导器件的研究

  2. 基于氟化镁-氧化铝的紫外光波导器件的研究,胡陶陶,张霞,光子集成,以其可实现光学系统的微型化和集成化的特点,在信息处理、传感技术等领域展现了广泛而优秀的应用前景。而近年来紫外波�
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-03-13
    • 文件大小:947200
    • 提供者:weixin_38516380
  1. 飞秒激光制备多包层光波导及其荧光和拉曼性质的研究

  2. 飞秒激光制备多包层光波导及其荧光和拉曼性质的研究,何瑞云,路庆明,飞秒激光微加工是近年来新兴的一种光波导制备方法。本文采用飞秒激光微加工技术,在钕离子掺杂的钆镓石榴石晶体中制备了一种新型
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-02-03
    • 文件大小:529408
    • 提供者:weixin_38688145
  1. MeV氧离子注入镁掺杂近化学剂量比铌酸锂制备平面光波导

  2. MeV氧离子注入镁掺杂近化学剂量比铌酸锂制备平面光波导,王磊,项炳锡,采用不同剂量的4.5MeV的氧离子注入镁掺杂近化学计量比铌酸锂形成平面光波导. 利用棱镜耦合方法和卢瑟福背散射/沟道技术测量波导暗模
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2019-12-29
    • 文件大小:589824
    • 提供者:weixin_38718223
  1. PCB技术中的平面光波导(PLC)分路器封装技术

  2. 随着光纤通信产业的复苏以及FTTX的发展,光分路器(Splitter)市场的春天也随之到来。   目前光分路器主要有两种类型:一种是采用传统光无源器件制作技术(拉锥耦合方法)生产的熔融拉锥式光纤分路器;另一种是采用集成光学技术生产的平面光波导(PLC)分路器。PLC分路器是当今国内外研究的热点,具有很好的应用前景,然而PLC分路器的封装是制造PLC分路器中的难点。   PLC分路器内部结构。   PLC分路器的封装是指将平面波导分路器上的各个导光通路(即波导通路)与光纤阵列中的光纤
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-11-12
    • 文件大小:103424
    • 提供者:weixin_38752628
  1. PCB技术中的光电印制电路板用聚合物光波导材料

  2. 摘要:对用于光电印制电路板上的聚合物光波导的材料及特点、制备原则、方法、分类、成型工艺以及测试方法进行了讨论和总结,提供了材料制备、耐热性、折射率、光传输损失和光波导制备等方面的实验结果。   引言   光电印制板(Optical-Electronic PrintedCircuit Board,EOPCB),作为未来非常具有成长潜力的PCB产品之一,简单地说,就是将光与电整合,以光来做信号传输,以电进行运算的新一代高速运算所需的封装基板。将目前发展得非常成熟的印制电路板加上一层导光层,使得电
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-11-10
    • 文件大小:229376
    • 提供者:weixin_38654915
  1. 显示/光电技术中的非对称平板光波导

  2. 现在我们考虑更加复杂的非对称平板光波导,如图1所示,n2≠n3。   图1  非对称平板光波导传输   我们可以用与对称平板光波导类似的方法对其进行求解,只是上、下界面的边界条件不同。这时咒模的特征值方程变为   对于给定的昭值,可以求出光传播的角度。然而,对于m=o,式(4-30)并不总是有解。因为右边平方根内的表达式有可能是负值。这是因为光波导的临界角应该以两界面中较大的临界角为准。也就是说,波在两个界面发生全内反射时,光波导的模角必须大于两个临界角。然而,如果光波导的厚度尼较
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-11-13
    • 文件大小:72704
    • 提供者:weixin_38694541
  1. 显示/光电技术中的直光波导中的辐射损耗

  2. 直光波导中的辐射损耗可以忽略,弯曲光波导和光波导制作过程中引入的光波导结构畸变是辐射损耗的主要来源。弯曲损耗随曲率半径的减小而增大,尤其是小截面光波导,此时光的限制因子较小,更容易引起弯曲损耗。对于SOl脊形光波导来说,掩埋的氧化层可能就会引起辐射损耗。对于光波导中不同的模式,光场穿透下包层的深度也不同,所以对氧化层厚度的要求也不同,在波长为1.3~1.6pm之间时,一般要求氧化层不小于0.4pm,以避免过度损耗。然而当光波导尺寸减小时,模式也会按比例地泄漏到包层中去,所以就应选一个比较厚的氧化
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-11-13
    • 文件大小:32768
    • 提供者:weixin_38727928
  1. 显示/光电技术中的硅光波导中损耗的分类

  2. 光波导的散射分为两种类型:体散射和界面散射。体散射是由于光波导体材料的缺陷造成的,如空洞、杂质原子和晶格缺陷等。界面散射是由于光波导芯层和包层界面的粗糙度引起的。体散射在硅材料中一般可以忽略。但如离子注入等工艺引入较多的晶格缺陷时,这类损耗也不可忽视。体散射损耗与缺陷数目、传输波长尺寸、沿着光波导的相关长度等参数有关。界面散射损耗研究广泛,相关的计算方法也有不少,我们引入一种比较简单的方法,即Tien等人在1971年提出来的基于表面功率镜面反射的理论囵。条件是相关长度较长,这是在大多数情况下都比
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-11-13
    • 文件大小:80896
    • 提供者:weixin_38629362
  1. 显示/光电技术中的有效折射率法进行脊形光波导结构

  2. SOl基片的构成如图1所示,顶层硅的厚度约为几微米,做为光波导的芯层材料;掩埋氧化层的厚度一般为0.5 gm,作为光波导的下包层,防止光场从衬底泄漏掉,所以只要氧化层的厚度大于光模的消逝场的尺寸,光就可以被有效的限制。表面一般也要淀积一层氧化层,作为上包层。   由于硅与二氧化硅之间大的相对折射率差(约42%),所以一般将SOl做成脊形光波导,下面我们就对SOl的脊形光波导利用有效折射率法进行较详细的分析。   有效折射率法的基本概念我们已经叙述过了,下面讲—下如何用有效折射率法来分析脊形光
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-11-13
    • 文件大小:108544
    • 提供者:weixin_38679277
  1. 显示/光电技术中的光波导基本结构

  2. 平板光波导的利用面非常有限,因为它只能导引光波沿着一个固定的方向传播,这无疑限制了光波导的应用;实际最长用的光波导结构为三维光波导,它能自由地将光波导引到任意想要的方向。目前在OEIC中最常用的光波导结构包括矩形光波导和脊形光波导;其他光波导类型如金属包层光波导、扩散光波导、质子交换光波导等在光子或光电子集成回路中基本不用,所以本节着重叙述脊形和矩形两种光波导。   矩形光波导和脊形光波导的剖面如图1(a)、(b)所示。   我们来分析矩形光波导。由于矩形光波导的对称性,所以其偏振特性较好,
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-11-13
    • 文件大小:232448
    • 提供者:weixin_38604653
  1. 显示/光电技术中的光波导的折射率及损耗系数

  2. 目前为止,我们认为折射率是实数,但是一般情况下,它是一个复数。复折射率定义为         因此,有一项为exp(-kon1z),这一项经常被写为exp(- a),a称为损耗系数, 之所以包含在里面,是因为a通常为强度损耗系数,因此我们可以写为   显然,式(4-96)描述的是光场强度随传输距离衰减的规律。后面我们还会进一步讨论复折射率和衰减系数。   定义损耗系数后,我们就要考察光波导能容忍什么程度的损耗。通常用的方法是看每厘米损耗的分贝数,即dB/cm。这是因为集成光路一般为几个
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-11-13
    • 文件大小:62464
    • 提供者:weixin_38678498
  1. 显示/光电技术中的光小目位脊形光波导基模调制器

  2. 在正向注入的情况下(即P+区相对于N+区接正偏压),电子和空穴将注入到本征区,形成电流。因为这就是一个p-l-n二极管结构,其导通电压约为0.7 V,所以正偏电压至少应大于0.7 V。在一定偏压下,载流子注入浓度与P+区和N+区的掺杂浓度有关。下面我们先来回顾一下脊形光波导的光场分布,这里根据我们所定义的截面重新计算,如图1所示。   图1  脊形光波导基模   我们讨论注入到器件(图1)中的载流子浓度。假设P+区和N+区的掺杂浓度为5×1018cm-3,正向偏压为0.9V,掺杂区近似被
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-11-13
    • 文件大小:137216
    • 提供者:weixin_38723105
  1. 飞秒激光直写光波导技术的前世今生

  2. “飞秒激光技术”一诞生就被用于研究光与物质的相互作用,迄今为止,发现了众多基于飞秒激光与物质非线性相互作用的新现象,其形式之多样,内容之丰富,使人目不暇接;其现象之神奇,结构之精细,令人瞠目结舌。飞秒激光相关的研究论文每年从刚开始的两位数到最近连续突破1000 篇,所观察到的现象大大拓展了人类对于光与物质相互作用的认识。
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-22
    • 文件大小:1048576
    • 提供者:weixin_38687807
  1. 基于平面光波导技术的阵列波导光栅发展概况

  2. 基于平面光波导技术的阵列波导光栅发展概况
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-10
    • 文件大小:658432
    • 提供者:weixin_38612909
  1. 微细孔隙聚合物光波导技术的研究

  2. 采用纳米相位分离技术,通过四氢呋喃(THF)同时溶解两种互不相溶的聚合物材料聚甲基丙烯酸甲脂(PMMA)和聚苯乙烯(PS),并充分混合.在旋涂成膜后,用环己脘溶解薄膜中的PS,将其从薄膜中分离出来,从而得到带有特定孔隙的PMMA聚合物薄膜.从实验上研究了不同孔隙率下含有微细孔隙的PMMA薄膜波导的折射率和光传输损耗(632.8nm),并与无孔隙的PMMA薄膜波导的结果进行了比较.
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-08
    • 文件大小:1048576
    • 提供者:weixin_38621365
  1. 光波导技术同步测量棱镜及波导薄膜参数

  2. 依据全反射理论和棱镜耦合原理,实现了对棱镜折射率及波导薄膜材料折射率和厚度的同步测量。使用高准直半导体激光器激光入射到棱镜内部与波导膜的分界面上,逐步旋转棱镜或改变棱镜的入射角,得到棱镜耦合M线,曲线前面几组的波谷为波导模激发,在M线左侧收尾处有一个不完整波峰,其反射光强随入射角迅速衰减,为全反射时的临界点,由此可实现棱镜及波导薄膜参数的同步测量;用此法测量了棱镜耦合一体化平面波导棱镜的折射率和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)聚合物波导薄膜的折射率和厚度。测量棱镜折射率精度为±1.9×10-4,波导
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-06
    • 文件大小:2097152
    • 提供者:weixin_38664989
  1. 电压感生的光波导

  2. 包括调制和开关技术在内的光波导技术,由于它们适用于光通讯和逻辑而引起了人们很大兴趣。我们已实验过一种新的、在电光晶体内以电学方法产生可控低损耗光波导结构的方法。用简单的介质波导分析可以定性地了解所观察到的波型结构和偏振现象。
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-05
    • 文件大小:1048576
    • 提供者:weixin_38651468
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