为了在光栅制作中对光栅掩模占宽比及槽深加以控制，结合光刻胶在显影过程中的非线性特性，建立了光栅掩模槽形演化的数学模型，由此分析和模拟曝光量、条纹对比度对光栅槽形的影响。结果表明：在显影条件确定时，光栅掩模占宽比随光刻胶曝光量的增大而减小，条纹对比度减小，则不仅使光栅占宽比减小，同时也是使光栅槽深减小的主要原因，这样做的前提是预先通过实验和计算确定出一个曝光量上限Ec。该方法能够反映光栅掩模形状的演化规律，为全息光栅参数预测和工艺控制提供依据。