提出了一种超结（SJ）VDMOS，其沟槽栅极下方具有高k（HK）介电柱，并通过仿真进行了研究。 HK电介质导致n柱的自适应辅助耗尽。 这不仅增加了n柱掺杂浓度，从而降低了比导通电阻（Ron，sp），而且减轻了SJ器件中的电荷不平衡问题。 在高电压阻挡状态下，HK电介质削弱了横向场并增强了垂直场强度，从而提高了击穿电压（BV）。 通过沟槽侧壁的离子注入形成了狭窄且高度掺杂的n柱，以进一步降低Ron，sp。 与传统的SJ VDMOS相比，R on，sp降低了42％，BV增加了15％。