本文提出了对我们以前的工作的扩展和完善，该工作是通过使用背景场​​技术[1]提取晶格上的双重虚拟正向康普顿散射幅度。 讨论了周期性背景场的零频率极限，其中再现了众所周知的结果。 此外，确定了外部场的大小的上限，对此仍然可以进行微扰处理。 最后，为评估有限体积校正设置了框架，从而可以分析即将来临的晶格结果。