通过将Si离子注入到Si3N4薄膜中，然后进行高温热退火，已经合成了嵌入硅纳米粒子（Si-NP）的氮化硅（Si3N4）薄膜。 随着不同的硅离子注入剂量，Si-N4基质中的Si-NPs浓度也发生了变化。 通过形成嵌入Al / Si-NP的Si3N4 / p-Si结构，通过器件电流中电荷引起的调制来观察存储行为。 然后进行电流-电压测量，以研究载流子传输机制，从而了解充电引起的器件电阻变化的起源。 发现电流在低电场下表现出基于跳跃的传导机制。 在高电场下，发现Frenkel-Poole（F-P）发射