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  1. 显示/光电技术中的Vishay推出PIN光敏二极管和NPN平面光敏三极管

  2. Vishay Intertechnology宣布推出通过AEC-Q101 认证的新款VEMD25x0X01 高速硅PIN 光敏二极管和VEMT25x0X01 NPN 平面光敏三极管,为扩充其光电子产品组合。该器件采用1.8mm的鸥翼式和倒鸥翼式表面贴装封装,光探测器可检测到可见光和近红外辐射,采用2.3mm x2.3mm x2.8mm 的紧凑占位。今天发布的器件针对仪表、汽车和打印机应用中的光幕、微型开关、编码器和光遮挡器进行了优化,探测器可在接近探测应用中探测可见光和红外发射源。   光敏二
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-11-06
    • 文件大小:51200
    • 提供者:weixin_38543950
  1. 显示/光电技术中的集电极形成的PIN光电二极管

  2. 在不对工艺做任何修改的情况下,N+埋层集电极可以被用做光电二极管的阴极,N型外延集电区可用做PIN光电二极管中的I层,而基极注入区则可以被用做阳极,如图1所示。这样就使得在标准的双极工艺中能够集成带有薄本征层的光电二极管[37~38]。   图1  基极-集电极形成的PIN光电二极管   高速双极工艺中N型外延层厚度大约在1 gm左右,这样小的厚度会使得探测器在黄色到红外光谱范围(580~1100 nm)内量子效率较低。而光脉冲信号引起的光生电流的上升时间和下降时间同样会由于薄外延层的原
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-11-14
    • 文件大小:73728
    • 提供者:weixin_38713306
  1. 显示/光电技术中的GaN PIN光电探测器结构

  2. 为了提高工作速度和响应度,往往采用PIN结构。PIN结构GaN紫外光电探测器具有以下优点:(1)由于高的势垒,因此有较低的暗电流;(2)工作速度高;(3)高阻抗适于焦平面阵列读出电路;(4)通过调整本征层的厚度可以调整其量子效率和工作速度;(5)器件可以在低偏压下或者零偏压下工作[12]。在PIN结构中,本征层起到了至关重要的作用,其厚度需要认真优化,因为它既影响了效率又影响了器件速度。图3-25是一种常见的GaN ΠN光电探测器结构四,首先在600°C下淀积⒛nm厚的低压缓冲层到蓝宝石称底,接
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-11-14
    • 文件大小:76800
    • 提供者:weixin_38663443
  1. 显示/光电技术中的光电APD探测器

  2. 虽然PIN结构通过扩展空间电荷区有效地提高了工作速度和量子效率,但是它无法将光生载流子放大,因此信噪比和灵敏度还不够理想。为了能探测到微弱的入射光,我们希望光电探测器具有内部增益,即少量的光生载流子在倍增电场作用下能产生较大的光生电流。雪崩光电二极管就是这样一种光电探测器,它是一种具有内部增益、能将探测到的光电流进行放大的有源器件。APD的工作原理为雪崩电离效应,即在+n结附近有一高电场,光生电子和空穴在该区中被加速,获得很高的能量。如果载流子能量足够大则它将会去碰撞晶格原子,使束缚的电子电离,
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-11-14
    • 文件大小:92160
    • 提供者:weixin_38630463
  1. 显示/光电技术中的光电PIN探测器

  2. 尽管这一材料体系的PIN通常只含有AlGaSb,但掺杂少量的砷能减少晶格失配。该材料用LPE方法在350~500'C温度下生长在GaSb衬底上,较低的温度用来生长重掺杂P型,较高的温度用来生长N型,′通过用掺碲和掺锗的方法来实现N型和P型掺杂。   第一支该材料的二极管如图1(a)所示[14],它具有GaSb/AlGaSb异质结构,量子效率达到了54%,响应波长为1 ptm到1.7 ptm。通过在异质结间加一层本征AlGaSb层实现PIN结构如图1(b)所示,同时响应波长降到了1.3 gm。图
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-11-14
    • 文件大小:82944
    • 提供者:weixin_38742927
  1. 显示/光电技术中的光电探测器异质结

  2. 图1(a)是一个典型的异质结PIN[13],P型和N型区域均为InP,本征层In1 ,Ga,As生长在N型InP衬底上。当X=0.47时InGaAs和InP之间晶格匹配,并且窄的禁带宽度能使光谱响应达到1.65 gm。由于InP的禁带较宽(1.34 eV),根据式(3-5)可知它的本征吸收截止波长为0.92 gm。因此对于波长大于0.92 gm的入射光InP呈透明状态,如图1(b)所示。通过消除表面p+-InP的吸收增加了入射光在本征区的吸收,有效地提高了响应度。表面吸收的消除还使得在0.92
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-11-14
    • 文件大小:69632
    • 提供者:weixin_38653040
  1. 显示/光电技术中的光电探测器基本结构

  2. 如图1(a)所示为PIN光电探测器基本结构,N型衬底上生长一层低掺杂本征层,在淀积的5102上开窗形成P型注入区。分别在N型衬底和表面做欧姆接触,其中表面的欧姆接触需要开窗以便于光线入射。为了减少入射表面的反射以提高器件外量子效率,需要在表面涂一层抗反射膜。在这种结构中P型注入区要比本征区薄得多,这样就能使大部分入射光在本征区被吸收,既提高了量子效率又提高了速度。   图1(b)为端面入射结构,P型和N型接触分别做在衬底上下表面而将入射光改为在端面入射。这种结构消除了表面入射结构产生的P型区域
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-11-14
    • 文件大小:63488
    • 提供者:weixin_38501810
  1. 显示/光电技术中的集成横向PIN光电二极管

  2. 图1中介绍了一种在轻掺杂的P型衬底(Na=6x1012cm-3)上采用1pm NM0S工艺制作的横向PIN光电二极管[59~60]。   图1   NMOS集成横向PIN光电二极管   由于PIN结构是直接制作在高电阻率的衬底上,因而I层的厚度可以和51材料中870 nm光注入的吸收深度(20 gm)相比拟。因而该PIN探测器的量子效率较高,在未增加抗反射涂层,5 V反向偏压条件下,可测得670 nm波长下响应度为0.32 A/W,870 nm波长下的响应度为6.45 A/W,换算成外部
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-11-14
    • 文件大小:65536
    • 提供者:weixin_38625184
  1. 显示/光电技术中的工艺下集成光电探测器

  2. 集成的探测器BiCMOS工艺仅仅是为了制作集成性能更好的光电探测器;其中电路部分则不是决定性的因素。   图1  基于标准SBC BiCMOS工艺的PIN光电二极管   图1中介绍了—种基于0.6 gm标准SBC BiCMOS工艺的PIN光电二极管结构[71]。N+埋层集电极用来做探测器的阴极,阳极由P+源/漏注入形成,工艺中的N阱则用来形成PIN光电二极管的I层,其厚度仅有0.7 gm,因此,该探测器的量子效率不会太高。入射光波长为850 nm时,响应度只有0.07 A/W。对于波长较
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-11-13
    • 文件大小:55296
    • 提供者:weixin_38611527
  1. 嵌入式系统/ARM技术中的ARM7一VxWorKs的网络化实时彩色分析虚拟仪器

  2. 特种光源、彩色显示等行业的基础是彩色的还原与传递,在光学计量领域属于光源的光度和色度计量范畴,色坐标和亮度因数是主要的参数之一。光度、色度测试系统的性能,在高清晰度数字电视的白场基准测试、高清晰度数字摄像机白平衡校准以及半导体光电二极管LED照明和全彩色显示的白场均匀性测试等领域发挥着基础性关键作用。    人眼的视觉可以感受380nm~780nto范围内的光信号,但对不同波长光的敏感程度不同。l924年国际照明委员会CIE公布了2。视场明视觉光谱光视效率函数V(γ)[1]。仿真人眼亮度感受的光
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-12-13
    • 文件大小:240640
    • 提供者:weixin_38608378