具有空间群为P63/m的磷灰石结构的材料，被广泛用作荧光离子的基质。这类材料之一的氟磷灰石Ca5(PO4)3F(FAP)，是已知的掺Nd3+的晶体激光材料中长脉冲效率最高和阈值最低者，这些性质是由于Nd3+在这种结构中有宽的吸收光谱和一种格位对称性。掺钕氟磷灰石（FAP:Nd3+)激光器的高增益，对于长脉冲和连续运转是有利的，但是，在用于Q开关运转时，却受到很大的限制。因此，我们要寻找另外的一些氧灰石基质，在这些基质中，可以改变荧光离子(例如，Nd3+)的局域离子环境，以提高贮能容量，但仍保持氟