在本文中，我们提出了超疏水的微/纳米双重结构（MNDS）。 通过对硅进行KOH蚀刻，首先设计出具有特定几何尺寸的设计精良的微结构，包括倒金字塔和V形凹槽。 然后通过改进的可控的深React离子刻蚀（DRIE）Craft.io在没有掩膜的情况下，在微结构顶上形成由高致密的高纵横比纳米柱制成的纳米结构，从而形成MNDS。 由于最小化的液体固体接触面积和DRIE过程中沉积的顶部碳氟化合物层的结果，MNDS显示出可靠的超疏水性。 接触角和接触角磁滞分别类似于165和小于1度。 根据挤压和跌落测试，MND

本文报道了一种新型的单步晶圆级超疏水微米/纳米双尺度（MNDS）聚（二甲基硅氧烷）（PDMS）薄膜的制造。 MNDS PDMS膜可在高温下直接从超低表面能硅衬底复制而无需任何表面活性剂涂层，从而实现了高精度。 提出了一种具有增强钝化步骤的改进的深React离子刻蚀（DRIE）Craft.io，以轻松实现超低表面能MNDS硅基板，并还用作后处理Craft.io以增强MNDS PDMS膜的疏水性。 通过密度泛函理论研究了这种增强的钝化步骤对表面能的化学修饰，这也是通过使用第一性原理计算在分子水平上对