先进库格式(ALF)是一种提供了库元件、技术规则和互连模型的建模语言，不同抽象等级的ALF模型能被EDA同时用于IC规划、原型制作、实现、分析、优化和验证等应用中。本文在介绍ALF概念的基础上，详细讨论了使用ALF时库元件与IC的设计流程，同时还介绍了IC分层实现与原型制作的方法。 在IC设计中，常常会发现半导体性能与得到的设计结果之间存在差距，这些差距最终要靠新一代EDA工具来弥合。一般说来，要想消除差距就必须将以前孤立的设计任务集成到一起，或者将以前零散的设计方案进行统一。500)