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  1. 利用gamit处理GPS数据的步骤

  2. GAMIT/GLOBK 软件是MIT和SIO研制的GPS综合分析软件包，可以估计卫星轨道和地面测站的三维相对位置。软件设计基于支持X－Windows的UNIX系统，现在的版本适用于Sun（OS/4，Solaris 2）、HP、IBM/RISC、DEC和基于、Intel工作站的LINUX操作系统。作为科研软件，GAMIT/GLOBK供研究和教育部门无偿使用，只需通过正式途径得到使用许可证。完全的开放性使用户可以对软件的工作原理、数据处理流程及技巧有全面的了解，这也在一定程度上促进了 GAMIT/

  3. 所属分类：嵌入式

    • 发布日期：2009-04-10
    • 文件大小：271360
    • 提供者：benbenjiayou

  1. 利用国家三角点成果建立矿区独立坐标系

  2. 文中讨论了利用国家三角点成果建立矿区独立坐标系的可行性及方法,并给出了利用CA-SIO fx-4850P计算器进行高斯平面坐标与矿区投影高程面上的独立坐标之间的互换程序。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-05-22
    • 文件大小：193536
    • 提供者：weixin_38599545

  1. 基于SPCE061A的SIO实现录放音

  2. 本文就是介绍利用SPCE061A的这两个资源和串行接口的FLASH(SPR1024)来开发数码录音及播放系统。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-08-29
    • 文件大小：104448
    • 提供者：weixin_38551431

  1. 单片机与DSP中的使用SPCE061A的SIO实现数码录音及播放

  2. 作者EMAIL： xiangyansunnorth.com.cn SPCE061A是台湾凌阳公司生产的一种新型的十六位单片机，该款单片机资源丰富，具有极高的性价比。SPCE061A具有可编程的音频处理功能，同时又具有串口输入输出端口SIO（它提供了一个1位的串行接口，用于与其它设备进行数据通讯），本文就是介绍利用SPCE061A的这两个资源和串行接口的FLASH(SPR1024)来开发数码录音及播放系统。 本系统只使用5个IO口，还有好多资源没有用到。因此，开发者可以在此基础上扩展系

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-12-10
    • 文件大小：69632
    • 提供者：weixin_38710198

  1. 利用双模干涉仪结构的氮氧化硅光波导环形谐振器

  2. 设计并制造了氮氧化硅（SiO（x）N（y），SiON）光波导环形谐振器，其中使用双模干涉仪代替常规环形谐振器中的定向耦合器。初步结果显示，对于横向电（TE）模式和横向磁（TM）模式，分别在1550nm处具有相同的100 GHz自由光谱范围，但质量因数不同，分别为3700和3900。在整个C波段上，消光比大于18 dB，对于TE和TM模式，插入损耗小于9.5 dB。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-18
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38601499

  1. 二甲基甲酰胺对多孔SiO

  2. 在碱性催化条件下正硅酸乙酯的溶胶体系中，引入二甲基甲酰胺(DMF)进行原位共溶胶凝胶，并结合常压干燥工艺制备多孔SiO2增透薄膜。利用Netzsch热分析仪研究了干凝胶在干燥过程中的热稳定性、用扫描电子显微镜（SEM）对样品薄膜的形态结构进行了表征，用分光光度计考察了DMF对膜层增透性能的影响。实验结果表明，DMF能有效防止凝胶的开裂，抑制颗粒团簇的产生，使胶粒聚联成大的网络结构，提高了成膜性能；DMF的加入能提高薄膜的透射率，使膜层在300~1000 nm范围内透射率达99%以上。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-26
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：weixin_38681301

  1. SiO

  2. 采用简便的尿素辅助沉淀法将Gd2O3∶Tb3+成功包覆在二氧化硅微球表面合成了尺寸均匀的球形SiO2Gd2O3∶Tb3+核壳发光材料,解决了稀土发光材料普遍存在的形貌可控性差和颗粒尺寸不均一等问题。利用XRD、SEM、红外光谱和荧光光谱等表征测试了样品的形貌、结构和发光性能。SEM照片和尺寸分布图显示,SiO2Gd2O3∶Tb3+粒子呈现均匀球形形貌,分散性良好,粒径约(608±18) nm。XRD图谱分析表明,600 ℃煅烧后,壳层Gd(OH)3CO3完全转变为立方相Gd2O3,结晶性良好,无

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-21
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：weixin_38519619

  1. 电子束自动扫描SiO

  2. 沉积速率是电子束蒸发制备光学薄膜的重要工艺参数之一，影响着成膜的微观结构和化学成分，从而对薄膜的光学性质和机械性质都产生很大的影响。SiO2材料是制备光学薄膜的主要低折射率材料之一，由于其导热性很弱，并且以升华的方式进行蒸发，因此在蒸发过程中表面会出现凹坑，影响其蒸发特性，不利于沉积速率的稳定。考虑到SiO2材料的蒸发特性，进行了电子束自动蒸发SiO2材料沉积速率控制实验，利用设计的扫描控制仪，采用设计的路径进行焦斑自动扫描，在扫描过程中采用比例-积分-微分(PID)闭环反馈法对沉积速率进行控制

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-12
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38742656

  1. 利用SiO

  2. 以正硅酸乙酯(TEOS:Tetraethoxysilane)、氨水、乙醇(EtOH:Ethyl Alcohol)、去离子水为原料,采用溶胶-凝胶法,在普通玻璃衬底的上表面制备出一层最大粒径在400nm左右的SiO2颗粒,利用这层颗粒对可见光的散射作用,提高Si薄膜对入射可见光的吸收率。在相同的沉积条件下,分别在带有该层颗粒的玻璃和普通玻璃的上表面沉积了同样厚度的Si薄膜,制成两组样品。通过比较这两组样品在可见光波段的漫反射率和透射率以及Si薄膜样品的暗电导和定态光电导,证明该层颗粒增强了Si薄膜

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-11
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38737521

  1. SiO

  2. 利用溶胶-凝胶(sol-gel)方法制备了SiO2-GeO2薄膜, 并测量了薄膜样品电场极化后光学二次谐波信号的相对大小和时间弛豫特性。 通过对不同衬底材料及不同温度下电场极化薄膜样品二次谐波信号的时间弛豫特性比较, 表明薄膜与衬底之间界面电荷的稳定性受衬底材料体电导率的影响, 从而影响了薄膜样品二次谐波信号的稳定性。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-11
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38683562

  1. 紫外激光SiO

  2. 介绍溶胶-凝胶法制备SiO2减反膜的溶液配制，基片清洗和膜层制备过程，利用正硅酸乙酯的碱性催化水解，通过浸入移液法在石英透镜的表面涂敷一层多孔SiO2减反膜，涂膜后石英透镜的透过率在350um波长处达到98.0％以上。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-11
    • 文件大小：854016
    • 提供者：weixin_38653155

  1. 激光烧蚀掺杂氧化硅气凝胶产生SiO

  2. 利用飞行时间质谱方法,研究了多种掺杂氧化硅气凝胶在激光作用下在负离子通道中的团簇形成特性,测得几个主要的SiO2团簇系列,讨论了掺杂物在激光能量吸收及传输与团簇产生机理中的重要作用。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-11
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38500572

  1. 生长周期对有机金属化学气相沉积法制备SiO

  2. 有机金属化学气相沉积(MOCVD)方法在人工蛋白石空隙中填充了磷化铟(InP)晶体以改变这类材料的光学行为, 在选择了InP的生长条件的基础上进行了周期生长试验。利用扫描电子显微镜(SEM)和紫外可见光谱(UV-Vis)对人工蛋白石晶体及其填充InP后的形貌和反射谱特性进行了分析。结果发现, 采用周期生长方式有利于InP在模板空隙中的填充, 且在反应时间相同的条件下, 反应周期数越多, InP在空隙中的填充率越高, 填充率增加反过来增大了二氧化硅球和空隙之间的折射率差, 从而可控地对所制备光子晶

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-10
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38679233

  1. 反应磁控溅射制备SiO

  2. 梳状滤光片是一种特殊的非均匀光学薄膜器件, 其膜层折射率渐变分布结构使它与常规均匀光学薄膜相比具有更好的光学和机械性能。利用反应磁控溅射工艺, 改变沉积SiOx(0≤x≤2)膜氧化程度, 获得折射率从2.74逐渐变化到1.58(λ=1550 nm)的SiOx渐变折射率薄膜材料。通过调制膜层折射率振幅和引入膜层-外部介质折射率匹配层, 成功地设计并制备了具有较好光学性能的SiOx渐变折射率红外梳状滤光片光学薄膜器件。使用单一的硅溅射靶材, 通过改变氧化程度获得可变折射率材料的方法, 为特殊光学薄膜

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-10
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38647925

  1. 激光预处理对SiO

  2. 采用小光斑激光预处理扫描SiO2单层膜，利用激光损伤阈值的光斑效应对预处理前后SiO2单层膜中缺陷的影响进行分析，并引入缺陷阈值和缺陷密度来表征薄膜中引起损伤的缺陷。研究表明，激光预处理可以使SiO2单层膜在采用最大光斑条件下的损伤阈值提高1.6倍左右，并且激光预处理可清除薄膜中低阈值的缺陷。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-09
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：weixin_38722317

  1. PECVD法制备SiO

  2. 应用等离子体增强化学气相淀积(PECVD)法制备SiO2薄膜, 并用折射率来表征致密性。研究了SiO2薄膜致密性与射频(RF)功率、基板温度、腔内压强、N2O/SiH4流量比的关系。通过Filmetrics薄膜测厚仪F20测量了薄膜的折射率, 用聚焦离子束扫描电镜(FIB-SEM)测量了表面微结构。利用能量弥散X射线(EDX)分析薄膜中Si、O、N元素含量随工艺参数变化对致密性的影响。进行多因子实验设计(DOE), 得出了各种条件下最优的折射率与结构的生长条件, 并研究了SiO2薄膜致密性随工艺

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-07
    • 文件大小：6291456
    • 提供者：weixin_38629042

  1. SiO

  2. 在SiO2绝缘层上用高频溅射法淀积一层InP薄膜。经过连续Ar+激光再结晶以后,晶粒尺寸明显增大。利用离子背散射分析了激光再结晶前后InP化学计量比的变化,结果表明:采用SiO2保护膜后较好地抑制了InP组分的分解。对A+激光辐照引起的InP再结晶的机制进行了分析。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-06
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38612527

  1. 基底温度对电子束沉积SiO

  2. 利用热力学统计理论及薄膜生长理论，给出了薄膜堆积密度、折射率与基底温度之间的关系。在实验中采用电子束热蒸发技术，在不同的沉积速率和基底温度下制备了单层二氧化硅薄膜。研究了沉积速率与薄膜表面均匀度及折射率的关系，并着重分析了基底温度对薄膜折射率、透射率、表面形貌及微观结构的影响。实验结果表明：基底温度升高，薄膜表面粗糙度减小，晶粒间隙缩小，折射率增加，透射率提高，吸收度降低。且当基底温度为500 ℃时，在可见光区域SiO2薄膜的透射率可达99.4%以上。对实验数据进行拟合，理论计算与实验结果符合得

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-05
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：weixin_38725450

  1. ZnOSiO

  2. 用一种操作简单、反应条件温和的方法制备了分散性好的超微小ZnOSiO2 核壳量子点透明溶液，利用透射电子显微镜(TEM)、紫外吸收光谱(UV)、荧光光谱(FL)、纳米粒度和ZETA 电位分析仪等技术对所制备纳米粒子的粒径大小、吸收光谱、发光性质进行表征。结果表明，ZnOSiO2核壳量子点平均粒径在3~5 nm，在紫外灯下发出黄绿色荧光，紫外最大吸收在330 nm 左右，可以发射出510 nm 的荧光。同时，系统地考察了pH 值、温度、不同金属阳离子以及不同阴离子对量子点荧光强度的影响。实验结果表

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-04
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：weixin_38552292

  1. 外加电场对一维链式分子(SiO

  2. 一维二氧化硅纳米材料是当前发光材料的研究热点之一，作为高效发光材料的候选材料，需要了解其电子结构参数和光谱数据。选取一维链式结构的(SiO2)10分子为研究对象，在利用密度泛函B3LYP方法得到分子基态构型的基础上，研究外加电场强度对该分子电子结构特性的影响；采用TD-B3LYP方法系统分析了外加电场强度对分子激发特性的影响规律。结果表明：无外加电场时，得到的分子电子结构参数与已有文献值完全吻合；各单元环中Si-O键键长增加或减小与施加电场的方向密切相关；在激发特性方面，分子在240 nm附近出

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-01-27
    • 文件大小：4194304
    • 提供者：weixin_38537689
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