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  1. ENVI使用手册--中文版

  2. ENVI（The Environment for Visualizing Images）是一套功能齐全的遥感图像处理系统，是处理、分析并显示多光谱数据、高光谱数据和雷达数据的高级工具。能够进行地物目标识别。完全由IDL开发，方便灵活，可扩展性强。获2000年美国权威机构NIMA遥感软件测评第一。　 ENVI包含齐全的遥感影像处理功能：常规处理、几何校正、定标、多光谱分析、高光谱分析、雷达分析、地形地貌分析、矢量应用、神经网络分析、区域分析、 GPS联接、正射影像图生成、三维图像生成、丰富的可供

  3. 所属分类：网络基础

    • 发布日期：2009-09-06
    • 文件大小：5242880
    • 提供者：dhq1721

  1. 《投影式GPS定位防盗多媒体系统》的研制与应用

  2. 投影式gps定位防盗多媒体系统包含多媒体、导航、防盗、网络、倒车等方面功能，实现车载数字化系统的多元化。 我的毕业设计之一，实物设计。

  3. 所属分类：网络基础

    • 发布日期：2009-12-23
    • 文件大小：49152
    • 提供者：toboxo

  1. IE4.0以上支持的滤镜属性表

  2. 滤镜效果 描述 Alpha 设置透明度 Blru 建立模糊效果 Chroma 把指定的颜色设置为透明 DropShadow 建立一种偏移的影象轮廓，即投射阴影 FlipH 水平反转 FlipV 垂直反转 Glow 为对象的外边界增加光效 Grayscale 降低图片的彩色度 Invert 将色彩、饱和度以及亮度值完全反转建立底片效果 Light 在一个对象上进行灯光投影 Mask 为一个对象建立透明膜 Shadow 建立一个对象的固体轮廓，即阴影效果 Wave 在X轴和Y轴方向利用正弦波纹打乱

  3. 所属分类：Web开发

    • 发布日期：2011-09-11
    • 文件大小：3072
    • 提供者：kzl623

  1. PowerPluginsManager0.1c

  2. Sketchup草图大师插件管理工具,共大概包含以下插件： Fix Reversed Face Materials (修复反面材质) LibFredo6 (多国语言编译库) v4.3c Cleanup (新废线清理) 更新到 v3.1.9 ExtrudeTools (曲面放样工具包) 20111207版 Curviloft (Loft by Spline) (曲线放样) 1.2c TT_Lib2 (2.6.0) Chronolux (日照分析) 1.0 beta SUClock 1.2a (S

  3. 所属分类：教育

    • 发布日期：2013-02-10
    • 文件大小：25165824
    • 提供者：hysuma

  1. 【裸眼3D立体电视投影膜】项目诚招合伙人、公司注册阶段种子轮投资人

  2. 一、 裸眼3D立体电视投影膜项目概况 1）无竞争对手，2）本专利已经公布，非常有钱景的项目，市场份额约在700亿左右。3）研发计划：100 万元种子轮融资款（或依托您的单位进行产品众筹）到位后，研发制作裸眼3D立体电视投影膜，4）目标用户：目标是各种智能电视机用户，平板电脑用户、智能手机用户，5）未来展望： 力争打造“显示+内容+应用”完整裸眼3D生态系统。注册阶段本次融资100万元，出让股份10%，（若依托您单位众筹仅需万元即可），6）投资回报：若您投资100万元，当裸眼3D投影膜普及覆盖率

  3. 所属分类：图像处理

    • 发布日期：2019-03-13
    • 文件大小：365568
    • 提供者：i135797135

  1. Windows下批处理MODIS数据详细过程

  2. 1、Windows下MRT批处理MODIS数据——拼接和重投影等（MRT安装、数据准备、cmd命令实现MRT批量处理）。2、ArcGIS Python实现Modis NDVI批量化月最大合成（arcpython批量处理过程及代码）。3、ENVI中批量去除NDVI的负值（App Store工具安装、使用说明、ENVI批量Band Math、shp文件掩膜裁剪）。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2019-03-14
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：xuzhu3943

  1. 双场理论和膜sigma模型

  2. 我们研究双场理论（DFT）的几何方面，并将其表示为双膜sigma模型。 从开放膜的相空间上的标准库仑代数开始，我们确定对子束的分裂和投影，该子束将库仑代数运算发送到DFT中的相应运算。 这精确地描述了DFT的几何结构如何位于两个库仑代数之间，并与广义几何协调。 我们构建了对应于DFT的膜sigma模型，并演示了如何通过其作用函数以统一的方式捕获几何和非几何通量背景的标准T对偶轨道。 这也澄清了在非几何闭合弦理论中几何的非交换和非缔合变形的出现。 DFT膜sigma模型的量规不变性与DFT的通量

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-04-09
    • 文件大小：900096
    • 提供者：weixin_38750829

  1. 与D = 4超重力和物质超多重相互作用的开放超膜边界处的超弦

  2. 我们提出了开放超膜，动力超重力和3型物质多重态的4维相互作用系统的完整超对称和κ对称作用。 考虑了单个3形式物质多重态和具有大量非线性相互作用的双3形式多重态的通用模型的情况。 在所有情况下，κ对称性的费米离子参数都受到两个明显不同的投影条件的影响，这表明系统的基态（尤其是域结）最多可以保留1/4的时空超对称性。 保持κ对称性所需的开放性超膜作用的边界项具有超弦作用的含义。 这种超弦作用的Wess-Zumino项用真正的线性超场表示，该场在3型规范对称性中扮演Stückelberg场。 这表明该

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-03-29
    • 文件大小：548864
    • 提供者：weixin_38635682

  1. 全息投影膜介绍

  2. 3D全息投影，全息投影膜介绍，制作等等。

  3. 所属分类：专业指导

    • 发布日期：2012-11-30
    • 文件大小：11534336
    • 提供者：yarnn

  1. 极紫外投影光刻掩模衍射简化模型的研究

  2. 建立一个计算极紫外投影光刻掩模衍射场的简化模型，在该简化模型中通过对入射光场进行追迹推导衍射场分布的解析表达式。简化模型中的掩模包括多层膜结构和吸收层结构两部分。多层膜结构的衍射近似为镜面反射。吸收层结构的衍射利用薄掩模修正模型进行分析，即将吸收层等效为位于某等效面上的薄掩模，引入边界点脉冲描述边界衍射效应，通过确定等效面的位置和边界点脉冲的振幅和相位，对经过吸收层的几何光波进行修正。吸收层结构的薄掩模修正模型能够用于计算斜入射角在12°范围内变化时，11 nm及其以上节点的密集线条的衍射场。以

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-12
    • 文件大小：3145728
    • 提供者：weixin_38660058

  1. 投影光学系统中的偏振像差分析

  2. 当光束斜入射时,光学薄膜存在一定的偏振效应。在飞利浦棱镜系统中,当一定大小孔径角的照明光束斜入射到分色合色薄膜后,S偏振分量和P偏振分量存在一定的相位差,使得线偏振光变成椭圆偏振光。利用琼斯矩阵偏振光线追迹的方法,分析了投影光学系统中由于两偏振分量相位差引起的偏振像差,以及它与暗态泄漏光强和系统衬比度的关系。得出了系统出瞳面上的光波偏振特性,以及在不同大小孔径角的照明光束入射下偏振像差的变化。分析了膜厚监控误差对光学系统偏振像差的影响,发现膜厚监控误差对偏振像差和系统衬比度有很大的影响。所使用的

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-11
    • 文件大小：927744
    • 提供者：weixin_38625192

  1. 实时灰阶掩膜技术制作微透镜列阵

  2. 提出一种制作连续微结构的实时灰阶掩膜技术，它将液晶显示(LCD)系统和投影光刻系统相结合，利用液晶显示系统实时显示一系列二值图形来获得连续的灰度记录，给出了原理分析。基于部分相干光成像理论，进行了微透镜制作的计算机模拟。建立了实验装置,并采用全色卤化银明胶(Kodak131)通过酶刻蚀得到半径为59.33 μm，深为1.638 μm的56×48微透镜列阵。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-11
    • 文件大小：708608
    • 提供者：weixin_38633475

  1. X射线多层反射膜

  2. 评述X射线多层反射膜原理、现状和问题.讨论了投影X射线光刻和X射线毛细管放电重复率激光器所用的反射镜.

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-11
    • 文件大小：248832
    • 提供者：weixin_38660069

  1. 应用于投影显示系统的偏振分光镜的设计和制备

  2. 讨论了应用于投影显示系统的满足宽光谱范围、大的入射角、高的消光比的偏振分光镜的设计和制备.提出了一种偏振分光镜的新的设计方法:采用多对迈克尼尔对组合来满足宽入射角范围的要求,采用多个中心波长不同的λ/4膜堆来满足宽光谱范围.设计的偏振分光镜在420 nm～670 nm的波段范围内,在41.34°～48.66°的入射角范围内,达到p偏振光的平均透过率大于85%,p偏振光的平均透过率与s光的平均透过率之比大于1000.并给出了设计实例和样品的实测结果.

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-11
    • 文件大小：93184
    • 提供者：weixin_38642735

  1. 投影显示中的光学薄膜元件

  2. 介绍了液晶显示器（LCD）投影、数字光处理（DLP）投影和硅基液晶（LCOS）投影的显示原理及光学薄膜元件在投影中的应用情况，对隔红外紫外滤光片、二向色镜、减反射膜及偏振分束镜的光学性能作了详细分析。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-10
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：weixin_38654380

  1. 极紫外投影光刻接触孔掩模的快速仿真计算

  2. 采用一个极紫外投影光刻掩模衍射简化模型实现了三维接触孔掩模衍射场的快速仿真计算。基于该模型，得到了接触孔掩模衍射场分布的解析表达式，并对光刻成像时的图形位置偏移现象进行了解释和分析。简化模型中，掩模包括吸收层和多层膜两部分结构，吸收层的透射利用薄掩模修正模型进行计算，多层膜的反射近似为镜面反射。以周期44 nm、特征尺寸分别为16 nm和22 nm的方形接触孔为例，入射光方向发生变化时，该简化模型与严格仿真相比，图形特征尺寸误差小于0.4 nm，计算速度提高了近100倍。此外，考虑到多层膜镜面位

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-09
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38538312

  1. 极紫外投影光刻掩模阴影效应分析

  2. 极紫外（EUV）投影光刻掩模在斜入射光照明条件下，掩模成像图形位置和成像图形特征尺寸（CD）都将随入射光方向变化，即存在掩模阴影效应。基于一个EUV掩模衍射简化模型实现了掩模阴影效应的理论分析和补偿，得到了掩模（物方）最佳焦面位置和掩模图形尺寸校正量的计算公式。掩模（物方）焦面位置位于多层膜等效面上减小了图形位置偏移；基于理论公式对掩模图形尺寸进行校正，以目标CD为22 nm的线条图形为例，入射光方向变化时成像图形尺寸偏差小于0.3 nm，但当目标CD继续减小时理论公式误差增大，需进一步考虑掩模

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-09
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38607026

  1. 极紫外光刻投影物镜中多层膜分析模型的建立及应用

  2. 极紫外光刻投影系统中高反膜厚度一般约300 nm，远大于13.5 nm的工作波长，光能并不能完全穿透膜层入射到基底，从而引入数倍于波长的额外光程差，降低系统成像质量。从能量调制的角度提出了一种基于能量守恒定律的多层膜等效工作界面模型，将光学薄膜中复杂的物理光学过程等效地转换为简单直观的几何光学过程，获取可被常用光学设计软件识别的数据，进而实现对有膜光学系统的分析。利用该模型对不同系统进行了分析优化，获得了一套可实现衍射受限成像的有膜系统方案，证明了基于能量守恒的等效工作界面的有效性，指导后续系统

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-05
    • 文件大小：3145728
    • 提供者：weixin_38688097

  1. 立方角锥型膜结构的逆反射特性计算

  2. 与传统玻璃微珠埋入型膜结构相比，立方角锥型膜结构具有更高的逆反射效率，它是设计制作钻石级反光膜的基础。为满足不同的应用需求，需在标准立方角锥阵列的基础上施加某种结构变化，以增大有效入射角范围、降低逆反射系数的各向异性。建立膜结构与逆反射性能的联系，对指导、优化逆反射材料结构设计、缩短设计开发流程具有重要意义。基于光线追踪原理，计入光在传播过程中主要的损耗因素（有效投影截面、反射折射损失、偏振效应），编写了立方角锥型反光膜逆反射率计算程序。利用该程序分别计算了标准完整角锥、标准截角角锥以及对称轴倾

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-04
    • 文件大小：3145728
    • 提供者：weixin_38613173

  1. 膜系引入偏振像差对投影光刻物镜设计的影响与改进

  2. 为了实现高成像要求，投影光刻物镜在设计时需要考虑膜层偏振效应的影响，并进行相应的分析和评价。首先介绍了基于琼斯矩阵的偏振像差理论，然后以一个数值孔径（NA）为0.75的投影光刻物镜为例，设计了相应膜系，系统分析了膜层引入的偏振像差，并在设计时对膜层引入的离焦项和球差项进行了间隔优化补偿，补偿前后标量波像差和质心畸变分别从68.92 nm 和3.76 nm 改善为1.08 nm 和0.38 nm，偶极照明模式下90 nm 密集线条对比度从0.082 提高为0.876，在此基础上，提出在设计时根据不

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-01-25
    • 文件大小：6291456
    • 提供者：weixin_38751177
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