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  1. 芯片制造流程

  2. 详细地介绍了芯片的制造流程,非常方便入门学习。
  3. 所属分类:制造

    • 发布日期:2012-04-10
    • 文件大小:1048576
    • 提供者:lklk_lklk
  1. 芯片制造流程(中文)

  2. 芯片的制造过程可概分为晶圆处理工序(Wafer Fabrication)、晶圆针测工序(Wafer Probe)、构装工序(Packaging)、测试工序(Initial Test and Final Test)等几个步骤。其中晶圆处理工序和晶圆针测工序为前段(Front End)工序,而构装工序、测试工序为后段(Back End)工序。
  3. 所属分类:制造

    • 发布日期:2013-03-27
    • 文件大小:273408
    • 提供者:hechengyong
  1. IC设计制造流程培训

  2. 芯片制造的过程就如同用乐高盖房子一样,先有晶圆作为地基,再层层往上叠的芯片制造流程后,就可产出必要的 IC 芯片(这些会在后面介绍)。然而,没有设计图,拥有再强制造能力都没有用,因此,建筑师的角色相当重要。但是 IC 设计中的建筑师究竟是谁呢?    在 IC 生产流程中,IC 多由专业 IC 设计公司进行规划、设计,像是联发科、高通、Intel 等知名大厂,都自行设计各自的 IC 芯片,提供不同规格、效能的芯片给下游厂商选择。因为 IC 是由各厂自行设计,所以 IC 设计十分仰赖工程师的技术
  3. 所属分类:硬件开发

    • 发布日期:2018-03-08
    • 文件大小:1048576
    • 提供者:cnkafka
  1. 芯片设计和生产流程.pdf

  2. 芯片制造的过程就如同用乐高盖房子一样,先有晶圆作为地基,再层层往上叠的芯片制造流程后,就可产出必要的IC 芯片(这些会在后面介绍)。然而,没有设计图,拥有再强制造能力都没有用,因此,建筑师的角色相当重要。但是IC 设计中的建筑师究竟是谁呢?本文接下来要针对IC 设计做介绍。
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2019-09-16
    • 文件大小:1006592
    • 提供者:weixin_38743506
  1. IC 芯片设计、制造到封装全流程

  2. 一、复杂繁琐的芯片设计流程 芯片制造的过程就如同用乐高盖房子一样,先有晶圆作为地基,再层层往上叠的芯片制造流程后,就可产出必要的 IC 芯片(这些会在后面介绍)。然而,没有设计图,拥有再强制造能力都没有用,因此,建筑师的角色相当重要。但是 IC 设计中的建筑师究竟是谁呢?本文接下来要针对 IC 设计做介绍。 在 IC 生产流程中,IC 多由专业 IC 设计公司进行规划、设计,像是联发科、高通、Intel等知名大厂,都自行设计各自的 IC 芯片,提供不同规格、效能的芯片给下游厂商选择。因为 I
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-07-13
    • 文件大小:759808
    • 提供者:weixin_38599712
  1. 简要分析LED芯片制造流程

  2. LED芯片制造流程随着技术的发展,LED的效率有了非常大的进步。在不久的未来LED会代替现有的照明灯泡。近几年人们制造LED芯片过程中首先在衬底上制作氮化鎵(GaN)基的外延片(外延片),外延片所需的材料源(碳化硅SiC)和各种高纯的气体如氢气H2或氬气Ar等惰性气体作为载体之后,按照工艺的要求就可以逐步把外延片做好。接下来是对LED-PN结的两个电极进行加工,并对LED毛片进行减薄,划片。然后对毛片进行测试和分选,就可以得到所需的LED芯片。具体的工艺做法,不作详细的说明。 下面简单介绍一下
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-07-11
    • 文件大小:119808
    • 提供者:weixin_38614825
  1. 八大问题解析玩转LED芯片知识

  2. LED芯片的制造流程是怎样的?LED芯片制造工序中,哪些工序对其光电性能有较重要的影响?用于半导体照明的芯片技术的发展主流是什么?什么是“倒装芯片”?它的结构如何?有哪些优点?下面给你详细解答,全面了解LED芯片知识。
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-08-20
    • 文件大小:92160
    • 提供者:weixin_38716519
  1. 解答八问,让你读透LED芯片

  2. 1、LED芯片的制造流程是怎样的? 2、LED芯片制造工序中,哪些工序对其光电性能有较重要的影响?3、LED芯片为什么要分成不同尺寸?尺寸大小对LED光电性能有哪些影响?4、LED大功率芯片一般指多大面积的芯片?为什么?。。。
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-08-15
    • 文件大小:86016
    • 提供者:weixin_38635794
  1. LED照明中的八大要素让你读透LED芯片

  2. 一 . LED芯片的制造流程是怎样的?     LED芯片制造主要是为了制造有效可靠的低欧姆接触电极,并能满足可接触材料之间最小的压降及提供焊线的压垫,同时尽可能多地出光。渡膜工艺一般用真空蒸镀方法,其主要在1.33×10?4Pa高真空下,用电阻加热或电子束轰击加热方法使材料熔化,并在低气压下变成金属蒸气沉积在半导体材料表面。一般所用的P型接触金属包括AuBe、AuZn等合金,N面的接触金属常采用AuGeNi合金。镀膜后形成的合金层还需要通过光刻工艺将发光区尽可能多地露出来,使留下来的合金层能
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-10-16
    • 文件大小:118784
    • 提供者:weixin_38664612
  1. 专用芯片技术中的终于有人讲透了芯片是什么,电子人必读

  2. 复杂繁琐的芯片设计流程   芯片制造的过程就如同用乐高盖房子一样,先有晶圆作为地基,再层层往上叠的芯片制造流程后,就可产出必要的 IC 芯片(这些会在后面介绍)。然而,没有设计图,拥有再强制造能力都没有用,因此,建筑师的角色相当重要。但是 IC 设计中的建筑师究竟是谁呢?本文接下来要针对 IC 设计做介绍。   在 IC 生产流程中,IC 多由专业 IC 设计公司进行规划、设计,像是联发科、高通、Intel 等知名大厂,都自行设计各自的 IC 芯片,提供不同规格、效能的芯
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-10-16
    • 文件大小:717824
    • 提供者:weixin_38739950
  1. 专用芯片技术中的一个自称非专业技术帝眼中的芯片设计

  2. 近年来,随着ARM的走红,ARM独特的授权模式也帮助越来越多的中国芯片产业成长起来。尤其是华为海思的成长,更是让很多人感到鼓舞。但很多好事之徒却说它毫无技术含量。     我(作者)看完之后痛心疾首,觉得很多人说的很多方面都是不对的,这是对中国IC设计的不尊重。所以献上此文,客观介绍一下芯片的设计制造流程,说一下我眼里的芯片产业     卖弄前,先自我介绍顺便声明一下,本人海思新员工,但不从事芯片设计类岗位,只是最近听过一个关于芯片的培训,再加上本人对芯片如何实现等问题也比较好奇,所以搜集过
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-10-15
    • 文件大小:216064
    • 提供者:weixin_38553837
  1. 基础电子中的“八问八答”全面解密LED芯片知识

  2. 1、LED芯片的制造流程是怎样的?   LED芯片制造主要是为了制造有效可靠的低欧姆接触电极,并能满足可接触材料之间最小的压降及提供焊线的压垫,同时尽可能多地出光。渡膜工艺一般用真空蒸镀方法,其主要在1.33×10?4Pa高真空下,用电阻加热或电子束轰击加热方法使材料熔化,并在低气压下变成金属蒸气沉积在半导体材料表面。一般所用的P型接触金属包括AuBe、AuZn等合金,N面的接触金属常采用AuGeNi合金。镀膜后形成的合金层还需要通过光刻工艺将发光区尽可能多地露出来,使留下来的合金层能满足有效
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-10-19
    • 文件大小:93184
    • 提供者:weixin_38723513
  1. LED照明中的解答八问 让你读透LED芯片

  2. 1、LED芯片的制造流程是怎样的?     LED芯片制造主要是为了制造有效可靠的低欧姆接触电极,并能满足可接触材料之间最小的压降及提供焊线的压垫,同时尽可能多地出光。渡膜工艺一般用真空蒸镀方法,其主要在1.33×10?4Pa高真空下,用电阻加热或电子束轰击加热方法使材料熔化,并在低气压下变成金属蒸气沉积在半导体材料表面。一般所用的P型接触金属包括AuBe、AuZn等合金,N面的接触金属常采用AuGeNi合金。镀膜后形成的合金层还需要通过光刻工艺将发光区尽可能多地露出来,使留下来的合金层能满足
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-10-19
    • 文件大小:89088
    • 提供者:weixin_38727087
  1. 半导体科普:IC功能的关键 复杂繁琐的芯片设计流程

  2. 在前面已经介绍过芯片制造的过程就如同用乐高盖房子一样,先有晶圆作为地基,再层层往上叠的芯片制造流程后,就可产出必要的 IC 芯片。然而,没有设计图,拥有再强制造能力都没有用,因此,建筑师的角色相当重要。但是 IC 设计中的建筑师究竟是谁呢?本文接下来要针对 IC 设计做介绍。   在 IC 生产流程中,IC 多由专业 IC 设计公司进行规划、设计,像是联发科、高通、Intel 等知名大厂,都自行设计各自的 IC 芯片,提供不同规格、效能的芯片给下游厂商选择。因为 IC
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-10-19
    • 文件大小:335872
    • 提供者:weixin_38565818
  1. EDA/PLD中的基于C++TCL PLI联合仿真下的芯片验证方法研究

  2. 来源:现代电子技术 作者:潘闻融,周智 电子科技大学   0引言   当今社会,芯片技术与人们的生活密切相关,在各种电子产品中都有芯片的身影,而且,它们往往是电子产品关键的核心技术。制造芯片的流程非常复杂而且资源投入巨大,保证芯片的设计质量非常重要。验证工作是芯片制造过程中及其关键的一个环节,无缺陷的芯片不是设计出来的,而是验证出来的,验证过程是否准确与完备,在一定程度上决定了一个芯片的命运。   目前在百万门级以上的ASIC,IP,SoC设计时代,验证约消耗整个设计工作的70%,需要专职
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-11-08
    • 文件大小:126976
    • 提供者:weixin_38707826
  1. 显示/光电技术中的浅谈LED晶粒/芯片制造流程

  2. 随着技术的发展,LED的效率有了非常大的进步。在不久的未来LED会代替现有的照明灯泡。近几年人们制造LED晶粒/芯片过程中首先在衬底上制作氮化镓(GaN)基的晶圆(外延片),晶圆所需的材料源(碳化硅SiC)和各种高纯的气体如氢气H2或氩气Ar等惰性气体作为载体之后,按照制程的要求就可以逐步把晶圆做好。接下来是对LED-PN结的两个电极进行加工,并对LED毛片进行减薄,划片。然后对毛片进行测试和分选,就可以得到所需的LED晶粒。具体的工艺做法,不作详细的说明。   下面简单介绍一下LED芯片生产
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-11-18
    • 文件大小:115712
    • 提供者:weixin_38693476
  1. 电源技术中的飞思卡尔公司推出业界最精确的锂离子电池充电器芯片

  2. 虽然锂离子(Li-Ion)电池可以为便携式消费电子产品提供诸多的优势,但它们需要特别精确的充电电流和输出电压来优化电池寿命和性能。为了满足这种需要,飞思卡尔半导体公司推出了一系列锂离子电池充电器芯片,它们可提供业界最高的性能和精度,并具有额外的配置灵活性。   飞思卡尔公司的MC34671、MC34673和MC34674单路输入自治电池充电器芯片在整个温度范围内可提供±0.4%的输出电压精度和±5%的充电电流精度。该芯片可以经过定制形成数百种配置来满足各种便携式和超级移动设备的需要。设计师可以
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-11-21
    • 文件大小:67584
    • 提供者:weixin_38590355
  1. 芯片制造概述复习问题

  2. 1. 说出一种增层的工艺。 2. 离子注入属于那一种基本的工艺方法? 3. 列出最基本的四种工艺方法。 4. 将氧化/光刻/扩散的加工流程画成截面图解释。 5. 描述一下电路设计的复合图。 6. 那一种基本工艺方法用到掩膜版? 7. 在电性测试是检测以下哪一参数?(晶圆厚度,缺陷密度,电路功能) 8. 在电路设计过程的哪一步运用CAD系统? 9. 为什么要将芯片封装? 10. 晶圆制造实例所讲的接触孔是什么作用?   
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-12-09
    • 文件大小:27648
    • 提供者:weixin_38609732
  1. 半导体科普:IC功能的关键 复杂繁琐的芯片设计流程

  2. 在前面已经介绍过芯片制造的过程就如同用乐高盖房子一样,先有晶圆作为地基,再层层往上叠的芯片制造流程后,就可产出必要的 IC 芯片。然而,没有设计图,拥有再强制造能力都没有用,因此,建筑师的角色相当重要。但是 IC 设计中的建筑师究竟是谁呢?本文接下来要针对 IC 设计做介绍。   在 IC 生产流程中,IC 多由 IC 设计公司进行规划、设计,像是联发科、高通、Intel 等知名大厂,都自行设计各自的 IC 芯片,提供不同规格、效能的芯片给下游厂商选择。因为 IC 是
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-01-20
    • 文件大小:503808
    • 提供者:weixin_38663837
  1. “八问八答”全面解密LED芯片知识

  2. 1、LED芯片的制造流程是怎样的?   LED芯片制造主要是为了制造有效可靠的低欧姆接触电极,并能满足可接触材料之间的压降及提供焊线的压垫,同时尽可能多地出光。渡膜工艺一般用真空蒸镀方法,其主要在1.33×10?4Pa高真空下,用电阻加热或电子束轰击加热方法使材料熔化,并在低气压下变成金属蒸气沉积在半导体材料表面。一般所用的P型接触金属包括AuBe、AuZn等合金,N面的接触金属常采用AuGeNi合金。镀膜后形成的合金层还需要通过光刻工艺将发光区尽可能多地露出来,使留下来的合金层能满足有效可靠
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-01-20
    • 文件大小:92160
    • 提供者:weixin_38524871
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