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  1. 半导体设备行业报告:设备国产化

  2. 晶圆制造设备(前道设备)通常占半导体代工厂投资总额的60%-70%。以国内最 大的代工厂中芯国际为例,其12英寸芯片SN1项目的总投资额为90.59亿美元,其 中生产设备购置及安装费达73.30亿美元,占投资总额的80.9%。随着集成电路线 宽不断缩小,集成电路的设备投资呈指数级上升趋势。根据IBS统计,5nm产线的 设备投资高达数百亿美元,是16/14nm产线投资的两倍以上,是28nm的四倍左右。根据SEMI的统计,前道设备占集成电路设备整体市场规模的81%,封装测试设备 约占14%。在前道设
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-03-23
    • 文件大小:1048576
    • 提供者:weixin_38715094
  1. 半导体设备行业投资报告:芯片制造工艺流程拆分,薄膜工艺,刻蚀工艺,光刻工艺,清洗工艺

  2. 半导体行业存在周期性,主要受两个因素影响,宏观经济和技术革新。1)宏观经济变化影响人们消费能力和意愿,通过下游市场需求影响整个行业景气 度;2)技术革新通过刺激下游消费意愿甚至强制改变市场格局。以2020年为锚,5G商用化、数据中心、物联网、智慧城市、汽车电子等一系列新技术 及市场需求做驱动,给予半导体行业新的动能。 半导体设备对行业周期变化敏感,行业周期性变化必然伴随产能的增减和产品的迭代。产能变化对应设备数量的变化,工艺变化对应设备的迭代,新一 轮增长周期有望带动设备需求。集成电路产业链主要
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-03-23
    • 文件大小:5242880
    • 提供者:weixin_38590456
  1. 中国半导体设备行业报告

  2. 先进制程对设备需求显现日益加速增长。半导体技术制程随着摩尔定律的节奏 而进步,每更新一代工艺制程,则需更新一代更为先进的制程设备。以台积电 为例,每个节点的投资额迅速攀升,其中 16nm 制程 1 万片/月产能投资 15 亿美元,7nm 制 程 1 万片/月产能投资估计 30 亿美元,5nm 制程 1 万片/月 产能投资估计 50 亿美元,而 3nm 则预估需要 100 亿美元。拆分细分半导体设备投资占比,光刻、沉积、刻蚀和清洗等投资占比较高 根据 SEMI 历史数据,按照产业链上下游来看晶圆制
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-03-22
    • 文件大小:1048576
    • 提供者:weixin_38628920
  1. 集成电路测试设备行业报告

  2. 设备制造业是集成电路的基础产业,是完成晶圆制造、封装测试环节和实现集成电路技术进步的关键,在集成电路生产线投资中设备投资达总资本支出的80%左右(SEMI 估计)。所需专用设备主要包括晶圆制造环节所需的光刻机、化学汽相淀积(CVD)设备、刻蚀机、离子注入机、表面处理设备等;封装环节所需的切割减薄设备、度量缺陷检测设备、键合封装设备等;测试环节所需的测试机、分选机、探针台等;以及其他前端工序所需的扩散、氧化及清洗设备等。这些设备的制造需要综合运用光学、物理、化学等科学技术,具有技术含量高、制造难度
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-03-20
    • 文件大小:1048576
    • 提供者:weixin_38560107
  1. 半导体清洗设备行业报告

  2. 半导体工艺中,杂质的存在会导致崩溃电压降低、氧化速率改变、电学性质改变等问题而导致成品良率下降。需要处理和清洗的杂质种类繁多,主要包含微粒、金属离子有机物、微粗糙和氧化物五类。颗粒包含聚合物、光刻胶和刻蚀杂质,这些杂质吸附在圆片表面,影响器件光刻工序几何图形的形成及电学参数等;有机物杂质包括细菌、机械油、光刻胶、清洗溶剂等,来源广泛,会在硅片表面形成薄膜阻碍对于圆片的清洗、加工等,因而通常在清洗步骤中首先清洗有机物;常见的金属杂质包括铁、铜、铝、铬等,来源于各种工艺和设备,如加工用设备和化学试剂
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-03-20
    • 文件大小:1048576
    • 提供者:weixin_38678057
  1. 国际半导体行业报告:盛美半导体

  2. 随着技术节点逐渐从45nm 缩小到10nm,传统的喷射清洗技术已经难以清除掉微小的颗粒,随之取代的是兆声波清洗技术,其利用兆声波产生的气穴将颗粒移除。但兆声波的传递并不均匀,颗粒去除率低,而ACM 开发的SAPS 技术可利用微小的移动解决兆声波传递的均匀性。 存储芯片从2D 升级到48 层3D 使芯片的高深宽比逐渐提高,逻辑芯片进入finFET 结构,有效的清洁需要使用较高功率级别的兆声波,这样会使原本脆弱的晶圆片造成严重图案损伤。而TEBO 技术可以稳定气泡的震荡,达到低甚至零损伤。 单一
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-03-20
    • 文件大小:1048576
    • 提供者:weixin_38683721